• 主要産品:抛光粉、抛光液、抛光革、抛光輪等
  • 18803728060
  • ayjsym@163.com

新聞動态

“抛光粉之王”氧化铈的分類及應用


什麽是抛光?抛光就是把物體粗糙的表面變(biàn)得光滑。抛光的原理大緻可以歸納爲三種理論:機械去除理論、化學作用理論、熱的表面流動(dòng)理論。

一、稀土抛光的三種理論

機械去除理論

1

機械去除理論認爲:①抛光是研磨的繼續,抛光與研磨的本質是相同的,都是尖硬的磨料顆粒對(duì)玻璃表面進行微小切削作用的結果。②由於(yú)抛光是用較細顆粒的抛光劑,所以微小切削作用可以在分子範圍内進行。由於(yú)抛光模與工件表面相互吻合,抛光時切向力特别大,因此使玻璃表面的凹凸結構被切削掉,逐漸形成光滑的表面。


化學作用理論

2

化學作用理論認爲:抛光過程是在玻璃表層(céng)、抛光劑、抛光模和水的作用下,發生錯(cuò)綜複雜的化學過程。主要是玻璃表面發生的水解過程,是水解生成物——矽酸凝膠薄膜不斷生成和不斷刮除的過程。


熱的表面流動理論

3

熱的表面流動理論認爲:玻璃表面由於(yú)高壓和相對運動,摩擦生熱使表面産(chǎn)生塑性流動,凸起的部分将凹陷填平,形成光滑的抛光表面。

9.jpg

抛光粉就是抛光過程中用的粉狀磨介,通常由氧化铈、氧化鋁、氧化矽、氧化鐵、氧化锆、氧化鉻等組份組成。不同的材料的硬度不同,在水中的化學性質也不同,因此使用場(chǎng)合各不相同。铈基稀土抛光粉是較爲重要的抛光粉産(chǎn)品之一。因其具有切削能力強,抛光時間短、抛光精度高、操作環境清潔等優點,故比其他抛光粉(如Fe2O3紅粉)的使用效果佳,而被人們稱爲"抛光粉之王"。


二、稀土抛光粉分類

稀土抛光粉的主要成分是CeO2,據其CeO2量的高低可将铈抛光粉分爲兩大類:一類是CeO2含量高的價(jià)高質優的高铈抛光粉,一般CeO2/TREO≥80%;一類是CeO2含量低的廉價(jià)的低铈抛光粉,其铈含量在50%左右,或者低於(yú)50%,其餘由La2O3,Nd2O3,Pr6O11組成。


備(bèi)注:TREO(TotalRare Earth Oxides )是稀土氧化物總(zǒng)量的意思。

對於(yú)高铈抛光粉來講,氧化铈的品位越高,抛光能力越大,使用壽命也增加,特别是硬質玻璃長(zhǎng)時間循環抛光時(石英、光學鏡頭等),以使用高品位的铈抛光粉爲宜。

10.jpg

圖2 高铈抛光粉可用於(yú)光學鏡頭等材料的抛光處(chù)理


低铈抛光粉一般含有50%左右的CeO2,其餘50%爲La2O3SO3,Nd2O3SO3,Pr6O11SO3等堿性無水硫酸鹽或LaOF、NdOF、PrOF等堿性氟化物,此類抛光粉特點(diǎn)是成本低及初始抛光能力與高铈抛光粉比幾乎沒有兩樣,因而廣泛用於(yú)平闆玻璃、顯像管玻璃、眼鏡片等的玻璃抛光,但使用壽命難免要比高铈抛光粉低。

11.jpg

圖3 低铈抛光粉可用於(yú)眼鏡(jìng)片抛光


三、稀土抛光粉的粒度及粒度分布對(duì)抛光粉性能的影響(xiǎng)


對(duì)於(yú)一定組分和加工工藝的抛光粉,平均顆粒尺寸越大,則玻璃磨削速度和表面粗糙度越大。在大多數情況下,顆粒尺寸約爲4μm的抛光粉磨削速度最大。相反地,如果抛光粉顆粒平均粒度較小,則磨削量減少,磨削速度降低,玻璃表面平整度提高,标準抛光粉一般有較窄的粒度分布,太細和太粗的顆粒很少,無大顆粒的抛光粉能抛光出高質量的表面,而細顆粒少的抛光粉能提高磨削速度。


稀土抛光粉生産技術屬於(yú)微粉工程技術,稀土抛光粉屬於(yú)超細粉體,國際上一般将超細粉體分3種:納米級(1nm~100nm);亞微米級(100nm~1μm);微米級(1μm~100μm),據此分類方法,稀土抛光粉可以分爲:納米級稀土抛光粉、亞微米級稀土抛光粉及微米級稀土抛光粉3類,通常我們使用的稀土抛光粉一般爲微米級,其粒度分布在1μm~10μm之間,稀土抛光粉根據其物理化學性質一般使用在玻璃抛光的最後工序,進行精磨,因此其粒度分布一般不大於(yú)10μm,粒度大於(yú)10μm的抛光粉(包括稀土抛光粉)大多用在玻璃加工初期的粗磨。小於(yú)1μm的亞微米級稀土抛光粉,由於(yú)在液晶顯示器與電腦光盤領域的應用逐漸受到重視,産量逐年提高。納米級稀土抛光粉目前也已經問世,随著(zhe)現代科學技術的發展,其應用前景不可預測。


四、稀土抛光粉原料

目前,我國(guó)生産(chǎn)铈系稀土抛光粉的原料有下列幾種:


1)氧化铈(CeO2),由混合稀土鹽類經(jīng)分離後(hòu)所得(w(CeO2)=99%);


2)混合稀土氫氧化物(RE(OH)3),爲稀土精礦(w(REO)≥50%)化學處(chù)理後(hòu)的中間原料(w(REO)=65%,w(CeO2)≥48%);


3)混合氯化稀土(RECl3),從(cóng)混合氯化稀土中萃取分離(lí)得到的少铕氯化稀土,主要含La,Ce,Pr和Nd,w(REO)≥45%,w(CeO2)≥50%);


4)高品位稀土精礦(kuàng)(w(REO)≥60%,w(CeO2)≥48%),有内蒙古包頭混合型稀土精礦(kuàng),山東(dōng)微山和四川冕甯的氟碳铈礦(kuàng)精礦(kuàng)。


以上原料中除第1種外,第2,3,4種均含輕稀土(w(REO)≈98%),且以CeO2爲主,w(CeO2)爲48%~50%。我國具有豐富的铈資源,據測(cè)算,其工業儲量約爲1800萬噸(以CeO2計),是我國獨有的一大優勢,並(bìng)可促進我國稀土工業繼續高速發展。


聲明:此方法僅供參(cān)考,若實施試驗,請查閱更多相關(guān)資料

用此方法實驗過程中若存在侵權或産(chǎn)生危險,本文編(biān)輯概不負責。

“本文轉載自網絡圖文,轉載目的爲傳(chuán)遞更多信息。若存在侵犯原作者權益的情況,請及時聯系我們,本平台将立即删除相關内容,且不承擔(dān)由此引發的任何法律責任。”