一．抛光粉的總(zǒng)類(lèi)：
抛光粉通常由氧化鋁、氧化矽、氧化锆、氧化铈等組份組成，不同的材料的硬度不同，在水中的化學性質也不同，因此使用場(chǎng)合各不相同。氧化鋁和氧化锆的莫氏硬度爲9，氧化铈和氧化矽爲7，氧化鐵更低。氧化铈與矽酸鹽玻璃的化學活性較高，硬度也相當，因此廣泛用於(yú)玻璃的抛光。
二．對抛光粉的基本要求：
（1）微粉粒度均勻一緻，在允許的範(fàn)圍(wéi)之内；
（2）有較高的純(chún)度，不含機(jī)械雜質；
（3）有良好的分散性，以保證加工過(guò)程的均勻，可适量添加分散劑(jì)提高懸浮率；
（4）粉末顆(kē)粒有一定的晶格形态，破碎時形成銳(ruì)利的棱角，以提高抛光效率；
（5）有合适的硬度和密度，和水有很好的浸潤性和懸浮性，因爲抛光粉需要與水混合粒度越大的抛光粉，磨削力越大，越适合於(yú)較硬的材料，要注意的是，所有的抛光粉的顆粒度都有一個分布問題，平均粒徑或中位徑D50的大小隻決定瞭(le)抛光速度的快慢，而粒徑Dmax決定瞭(le)抛光精度的高低。因此，要得到高精度 要求，控制抛光粉的顆粒。普通抛光粉之所以存在劃傷，就是有大顆粒的原因。所以一般選擇粒徑分布範圍窄的納米抛光粉（VK-L30F）。顆粒越細的抛光粉，所抛材料的亮度越高。
抛光過程中漿料的濃度決定瞭(le)抛光速度,濃度越大抛光速度越高。使用小顆粒抛光粉時，漿料濃度因适當(dāng)調低以得到合适的流動性，一般建議在7-10%
三．抛光模的選擇：
抛光模應該用軟一點(diǎn)的。應該指出的是，很多聚氨酯抛光片中添加瞭(le)氧化铈抛光粉。這些抛光粉的顆粒度同樣決定瞭(le)最終的抛光精度。一般使用不加抛光粉的抛光模，種類有海綿輪，羊毛輪等。
四．影響(xiǎng)抛光粉性能的指标：
1、粉體的粒度大小：顆粒的大小及均勻度決定瞭(le)抛光速度和精度，過篩的篩網目數能掌握粉體相對(duì)的粒度的值，平均粒度決定瞭(le)抛光粉顆粒大小的整體水平。
2、粉體莫氏硬度：硬度相對(duì)大的粉體具有較快的切削效果，同時添加一些助磨劑等等也同樣能提高切削效果；不同的應用領域會(huì)有很大出入，包括自身加工工藝。
3、粉體懸浮性：好的抛光粉要有較(jiào)好的懸浮性，粉體的形狀和粒度大小對(duì)懸浮性能具有一定的影響，納米粒徑的抛光粉的懸浮性相對(duì)的要好一些，所以精抛一般選擇納米抛光粉。
4、粉體的晶型：粉體的晶型是團聚在一起的單(dān)晶顆粒，決定瞭(le)粉體的切削性、耐磨性及流動性。粉體團聚在一起的單(dān)晶顆粒在抛光過程中分離，使其切削性、耐磨性逐漸下降，顆粒爲球型的抛光粉具有良好的切削性、耐磨性和流動性。
五．抛光範圍細分：
作爲精細抛光材料，目前市場(chǎng)上用量的幾類抛光粉主要是氧化鋁抛光粉，氧化铈抛光粉，氧化矽(guī)抛光粉等。
1、氧化鋁抛光粉：
氧化鋁抛光粉（VK-L30F）一般用於(yú)石材抛光，鋁材鏡面抛光，不鏽鋼鏡面抛光，鑄鐵抛光，钛合金抛光，金相分析，汽車油漆鏡面抛光，樹脂抛光，寶(bǎo)石抛光，球型顆粒，粒徑0.3um。
2. 二氧化矽(guī)抛光粉：
一般用於(yú)人工晶體，寶(bǎo)石抛光，或者金屬制品精抛後修複其少量的瑕疵。其粒徑一般50nm
3. 氧化铈抛光粉或者抛光液(VK-Ce01W)：
用於(yú)鏡頭、電(diàn)視顯像管、眼鏡片、晶圓，光學元件、光纖、藝術玻璃、電(diàn)子玻璃、平闆玻璃等的抛光。一次粒徑一般要求在20-30nm,二次粒徑一般要求0.2um。