氧化铈抛光粉主要成份爲二氧化铈（CeO2），其次分别爲氧化镧（La2O3）、氧化镨（Pr2O3）、氧氟化镧（LaOF），此外還含有微量的氧化矽(guī)、氧化鋁和氧化鈣(gài)。
氧化铈抛光粉生産(chǎn)工藝(yì)：
☆高铈系稀土抛光粉的生産(chǎn)
以稀土混合物分離後(hòu)的氧化铈爲原料，以物理化學方法加工成硬度大、粒度均勻、細小，呈面心立方晶體的粉末産(chǎn)品。
其主要工藝過程爲 : 原料 → 高溫 → 煅燒 → 水淬 → 水力分級 → 過濾 → 烘幹 → 高铈稀土抛光粉産品。主要設備有 : 煅燒爐，水淬槽，分級器，過濾機，烘幹箱。 主要指标 : 産品中w(REO)=99% ，w(CeO2)=99%; 稀土回收率約95%。該産品适用於(yú)高速抛光。這種高铈抛光粉早代替瞭(le)古典抛光的氧化鐵粉（紅粉）。
☆中铈系稀土抛光粉的制備(bèi)
用混合稀土氫氧化物(w(REO)=65% ，w(CeO2)≥48%) 爲原料，以化學方法預處(chù)理得稀土鹽溶液，加入中間體( 沉澱劑) 使轉化成 w(CeO2)=80% ～ 85% 的中級铈系稀土抛光粉産(chǎn)品。其主要工藝過程爲:
原料 → 氧化 → 優溶 → 過濾 → 酸溶 → 沉澱 → 洗滌(dí)過濾 → 高溫煅燒 → 細磨篩分 → 中級铈系 稀土抛光粉産(chǎn)品。
主要設備(bèi)有 : 氧化槽，優溶槽，酸溶槽，沉澱(diàn)槽，過濾機，煅燒爐，細磨篩分機及包裝機。
主要指标 : 産(chǎn)品中 w(REO)=90% ， w(CeO2) =80% ～ 85% ; 稀土催化材料回收率約 95% ; 平均粒度 0.4 微米 ～ 1.3微米 。該産(chǎn)品适用於(yú)高速抛光，比高級铈稀土抛光粉進行高速抛光的性能更爲優良。
☆低铈系稀土抛光粉的制備(bèi)
以少铕氯化稀土 (w(REO)≥45% ，w(CeO2)≥48%) 爲原料，以合成中間體( 沉澱劑) 進行複鹽沉澱等處理，可制備(bèi)低級铈系稀土抛光粉産(chǎn)品。
其主要工藝過程爲 : 原料 → 溶解 → 複鹽沉澱 → 過濾洗滌(dí) → 高溫煅燒 → 粉碎 → 細磨篩分 → 低級铈系稀土抛光粉産(chǎn)品。
主要設備(bèi)有 : 溶解槽，沉澱(diàn)槽，過濾機，煅燒爐，粉碎機，細磨篩分機。
主要指标 : 産(chǎn)品中 w(REO)=85% ～ 90% ， w(CeO2)=48% ～ 50%; 稀土回收率約 95%; 平均粒徑(jìng) 0.5微米～ 1.5微米 。
目前，國(guó)内生産(chǎn)的低級铈系稀土抛光粉的量多，約占總産(chǎn)量的 90% 以上。